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用于在绝缘树脂层上形成配线的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200610127765.7
  • IPC分类号:H05K3/46;B32B15/08;B32B15/20;H05K3/00
  • 申请日期:
    2006-09-08
  • 申请人:
    新光电气工业株式会社
著录项信息
专利名称用于在绝缘树脂层上形成配线的方法
申请号CN200610127765.7申请日期2006-09-08
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2007-03-14公开/公告号CN1929721
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H05K3/46IPC分类号H;0;5;K;3;/;4;6;;;B;3;2;B;1;5;/;0;8;;;B;3;2;B;1;5;/;2;0;;;H;0;5;K;3;/;0;0查看分类表>
申请人新光电气工业株式会社申请人地址
日本长野县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人新光电气工业株式会社当前权利人新光电气工业株式会社
发明人山野孝治;原山公作;加藤广幸;小山铁也
代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司代理人顾红霞;张天舒
摘要
本发明公开了一种用于形成配线的方法,该方法包括:在其上形成基层配线的绝缘基板上按顺序层压处于半固化状态的热固性树脂薄膜和金属箔,所述金属箔的毛面面向所述热固性树脂薄膜,并在加热的同时挤压所述热固性树脂薄膜和所述金属箔;在所述金属箔中形成开口,以便露出所述绝缘树脂层中将要形成导通孔的部分;通过使用其中形成有所述开口的金属箔作为掩模,将高能射束照射到所述绝缘树脂层上,以在所述绝缘树脂层中形成所述导通孔;通过所述金属箔的开口进行所述导通孔的去污处理;通过蚀刻去除所述金属箔;形成无电解镀层;以及通过半加成工艺在所述无电解镀层上形成包括电镀层的配线。

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