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反射折射投射镜头和制造其的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201780084347.0
  • IPC分类号:G03F7/20;G02B17/08
  • 申请日期:
    2017-12-01
  • 申请人:
    卡尔蔡司SMT有限责任公司
著录项信息
专利名称反射折射投射镜头和制造其的方法
申请号CN201780084347.0申请日期2017-12-01
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2019-09-17公开/公告号CN110249265A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;2;B;1;7;/;0;8查看分类表>
申请人卡尔蔡司SMT有限责任公司申请人地址
德国上科亨 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人卡尔蔡司SMT有限责任公司当前权利人卡尔蔡司SMT有限责任公司
发明人M.罗克塔舍尔;M.格鲁普;H.瓦格纳
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人王蕊瑞
摘要
一种反射折射的投射镜头(PO),用于使用具有工作波长λ<260nm的电磁辐射将在投射镜头的物平面(OS)的有效物场(OF)中布置的掩模图案成像到在投射镜头的像平面(IS)上布置的有效像场中。投射镜头包括多个透镜和包含至少一个凹面反射镜(CM)的多个反射镜,并且透镜和反射镜限定了投射束路径,其从物平面(OS)延伸到像平面(IS)并且包含至少一个光瞳平面(P2)。反射镜包括具有第一反射镜表面(MS1)的第一反射镜(FM1)和具有第二反射镜表面(MS2)的第二反射镜(FM2),该第一反射镜布置在物平面和在与物平面光学共轭的第一场平面的光学附近的光瞳平面(P2)之间的投射束路径中,并且该第二反射镜布置在光瞳平面(P2)和在与第一场平面光学共轭的第二场平面的光学附近的像平面之间的投射束路径中。该第一反射镜表面(MS1)和/或第二反射镜表面(MS2)设计为自由形式表面。

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