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具有栅极堆叠结构的半导体器件

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200710305601.3
  • IPC分类号:H01L29/49;H01L29/78
  • 申请日期:
    2007-12-26
  • 申请人:
    海力士半导体有限公司
著录项信息
专利名称具有栅极堆叠结构的半导体器件
申请号CN200710305601.3申请日期2007-12-26
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2008-09-03公开/公告号CN101257040
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/49IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;4;9;;;H;0;1;L;2;9;/;7;8查看分类表>
申请人海力士半导体有限公司申请人地址
韩国京畿道利川市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人海力士半导体有限公司当前权利人海力士半导体有限公司
发明人林宽容;梁洪善;赵兴在;金兑京;金龙水;成敏圭
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人刘继富;顾晋伟
摘要
本发明提供一种具有栅极堆叠结构的半导体器件,包括第一导电层、位于所述第一导电层上方的第一中间结构、位于所述第一中间结构上方的第二中间结构以及位于所述第二中间结构上方的第二导电层。所述第一中间结构包括金属硅化物层和含氮金属层。所述第二中间结构包括至少含氮金属硅化物层。

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