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一种离子阱装置及其控制方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201910329278.6
  • IPC分类号:H01J49/42
  • 申请日期:
    2019-04-23
  • 申请人:
    华为技术有限公司
著录项信息
专利名称一种离子阱装置及其控制方法
申请号CN201910329278.6申请日期2019-04-23
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-10-27公开/公告号CN111834196A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J49/42IPC分类号H;0;1;J;4;9;/;4;2查看分类表>
申请人华为技术有限公司申请人地址
广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人华为技术有限公司当前权利人华为技术有限公司
发明人沈杨超;苏长征
代理机构深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙)代理人王仲凯;骆苏华
摘要
本申请实施例公开了一种离子阱装置及其控制方法,用于量子计算或量子操控等,可以快速补充离子,降低离子补给耗时,降低离子或者量子比特丢失对量子操控和测量操作的影响。离子阱装置,包括:离子生成与捕获区,离子存储区和离子操控测量区,其中离子存储区位于离子生成与捕获区和离子操控测量区之间;离子生成与捕获区用于:生成离子并将生成后的离子捕获;离子存储区用于:对在离子生成与捕获区捕获的离子进行存储,以及向离子操控测量区补充新的离子;离子操控测量区用于:对囚禁在离子操控测量区的离子进行量子操控和测量操作。

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