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上表面抗反射膜形成用组合物以及使用其的图案形成方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201280017938.3
  • IPC分类号:G03F7/11
  • 申请日期:
    2012-04-11
  • 申请人:
    AZ电子材料IP(日本)株式会社
著录项信息
专利名称上表面抗反射膜形成用组合物以及使用其的图案形成方法
申请号CN201280017938.3申请日期2012-04-11
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2013-12-18公开/公告号CN103460136A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/11IPC分类号G;0;3;F;7;/;1;1查看分类表>
申请人AZ电子材料IP(日本)株式会社申请人地址
德国达姆施塔特 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人默克专利有限公司当前权利人默克专利有限公司
发明人片山朋英;佐尾高步
代理机构北京三幸商标专利事务所(普通合伙)代理人刘激扬
摘要
本发明提供具有与以往制品同等以上的成膜性、折射率、经时稳定性以及安全性的上表面抗反射膜形成用组合物以及使用其的图案形成方法。一种上表面抗反射膜形成用组合物,其特征在于包含由下述通式(1)表示的重均分子量为300,000~800,000的含氟聚合物、碳原子数10~18的烷基磺酸以及溶剂,-Ax-By- (1)式中,A为由下述通式(A)表示的重复单元,式中,R为碳原子数1~40的含氟亚烷基或者碳原子数2~100的具有醚键的含氟亚烷基,B是可与A结合而形成共聚物的重复单元,x以及y是表示聚合比的数,并且x不为0,A和B可无规地结合,也可形成嵌段。

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