真空气相沉积涂敷系统设备

实用新型专利无效专利

申请号：
CN201020297459.X
IPC分类号：--
申请日期：
2010-08-18
申请人：
中国电子科技集团公司第十研究所

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	真空气相沉积涂敷系统设备
申请号	CN201020297459.X	申请日期	2010-08-18
法律状态	权利终止	申报国家	暂无
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	中国电子科技集团公司第十研究所	申请人地址	四川省成都市茶店子东街48号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国电子科技集团公司第十研究所	当前权利人	中国电子科技集团公司第十研究所
发明人	敖辽辉;苟晓松
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本实用新型提出的一种真空气相沉积涂敷系统设备。包括，各个腔室相互连通的蒸发腔室，高温裂解腔室，高分子沉积聚合腔室和真空冷阱室，在高分子沉积聚合腔室和真空冷阱室之间的接口管道上，设置有一个根据被涂覆零件数量选择相应内孔口径规格的塞子式节流阀，用内孔口径为连接管道截面积25％～75％的节流阀流道改变调整抽真空的速率。本实用新型结构简单，成本低，克服了现有的抽真空的速率不能根据高分子沉积聚合腔室涂覆零件的多少进行调节的不足，解决了因涂覆量的不同引起的涂覆膜质量下降和原材料浪费的问题。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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