一种表面具有高致密纳米金刚石薄膜的工件及一种高致密纳米金刚石薄膜的制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201710470374.3
IPC分类号：C23C16/27;C23C16/02
申请日期：
2017-06-20
申请人：
深圳先进技术研究院

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专利名称	一种表面具有高致密纳米金刚石薄膜的工件及一种高致密纳米金刚石薄膜的制备方法
申请号	CN201710470374.3	申请日期	2017-06-20
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2018-12-28	公开/公告号	CN109097754A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C16/27 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C16/00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积（CVD）工艺（反应溅射或真空蒸发入C23C 14/00）〔4〕 C23C16/22 以沉积金属材料以外之无机材料为特征的〔4〕 C23C16/26 仅沉积碳〔4〕 C23C16/27 仅沉积金刚石〔7〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;6;/;2;7;;;C;2;3;C;1;6;/;0;2查看分类表>
申请人	深圳先进技术研究院	申请人地址	广东省深圳市南山区西丽大学城学苑大道1068号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	深圳先进技术研究院	当前权利人	深圳先进技术研究院
发明人	唐永炳;王陶;黄磊
代理机构	广州三环专利商标代理有限公司	代理人	郝传鑫;熊永强

摘要

本发明提供了一种高致密纳米金刚石薄膜的制备方法，包括：将工件基体进行表面预处理，使其表面带正电或负电；将赖氨酸加入到水中，得到赖氨酸溶液，再向赖氨酸溶液中加入纳米金刚石粉，超声分散后得到纳米金刚石颗粒表面带正电或负电的纳米金刚石悬浊液；将经表面预处理后的工件基体浸入到与工件基体带相反电荷的纳米金刚石悬浊液中，超声震荡，使纳米金刚石颗粒吸附在工件基体表面；吸附完成后，取出工件基体，清洗并经氮气吹干后，采用化学气相沉积设备在工件基体上生长金刚石薄膜。该方法可实现在复杂工件上进行大面积纳米级厚度的高致密金刚石薄膜的制备，薄膜质量高，结合力强，且工艺简单，成本低，在纳米机电系统中具有广阔的应用前景。

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