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一种球面高质量大面积金刚石厚膜的抛光方法及装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200510055285.X
  • IPC分类号:B23K26/36;B23K26/08
  • 申请日期:
    2005-03-18
  • 申请人:
    北京工业大学
著录项信息
专利名称一种球面高质量大面积金刚石厚膜的抛光方法及装置
申请号CN200510055285.X申请日期2005-03-18
法律状态权利终止申报国家暂无
公开/公告日2005-08-17公开/公告号CN1654158
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B23K26/36IPC分类号B;2;3;K;2;6;/;3;6;;;B;2;3;K;2;6;/;0;8查看分类表>
申请人北京工业大学申请人地址
北京市朝阳区平乐园100号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北京工业大学当前权利人北京工业大学
发明人杨胶溪;左铁钏;肖荣诗
代理机构北京思海天达知识产权代理有限公司代理人张慧
摘要
本发明属于激光微加工领域。目的在于克服机械抛光、热铁板抛光等方法出现的速率慢、易损伤等缺点。首先进行金刚石膜生长面的抛光,形核面为基准面;将膜用粘结剂固定在能实现三维运动的弧面抛光台上,抛光台的弧面与金刚石的弧面吻合;调整Nd:YAG激光的焦点光斑落在金刚石膜的表面,并调整激光的入射角;摆动轴与弧面圆心重合后,使抛光台旋转和摆动,用Nd:YAG激光进行粗抛光,并适时调整抛光台高度;当测得的平均表面粗糙度Ra介于5~20μm时,改用ArF准分子激光进行精抛光;当生长面表面粗糙度达到5~20nm时,便停止抛光,并取下金刚石膜;重复以上步骤进行形核面的抛光。本发明对金刚石膜的损伤小,抛光过程噪音小,设备结构简单,易操作。

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