首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据，仅供参考，实际以国家知识产权局展示为准

改进的CPL掩模及其制造方法和程序产品

发明专利无效专利

申请号：
CN200610149215.5
IPC分类号：G03F1/00;G03F7/20;H01L21/027
申请日期：
2006-08-14
申请人：
ASML蒙片工具有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	改进的CPL掩模及其制造方法和程序产品
申请号	CN200610149215.5	申请日期	2006-08-14
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2007-03-28	公开/公告号	CN1936701
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备〔3，2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;0;0;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人	ASML蒙片工具有限公司	申请人地址	荷兰维尔德霍芬变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	ASML蒙片工具有限公司	当前权利人	ASML蒙片工具有限公司
发明人	J·F·陈;D·－F·S·徐;D·范登布罗克;J·C·帕克;T·莱迪格
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	张雪梅;张志醒

摘要

一种掩模制造方法，该掩模用于印制包含多个特征的图形。该方法包括步骤：获得代表多个特征的数据；和通过蚀刻衬底形成台面并在上述台的整个上表面上沉积铬层来形成至少所述多个特征之一，其中上述台面具有预先确定的高度。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供