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阵列基板及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201710899289.9
  • IPC分类号:H01L27/12
  • 申请日期:
    2017-09-28
  • 申请人:
    友达光电股份有限公司
著录项信息
专利名称阵列基板及其制造方法
申请号CN201710899289.9申请日期2017-09-28
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2018-02-16公开/公告号CN107706198A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/12IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;2查看分类表>
申请人友达光电股份有限公司申请人地址
中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路1号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人友达光电股份有限公司当前权利人友达光电股份有限公司
发明人黄书豪;刘晋铨;苏松宇
代理机构北京市立康律师事务所代理人梁挥;孟超
摘要
一种阵列基板的制造方法,包括以下步骤。依序形成栅绝缘层、第一及第二栅极、第一层间绝缘层于第一及第二主动层上。利用掩膜进行一微影蚀刻工艺,以于栅绝缘层与第一层间绝缘层中形成第一~第四接触洞。形成分别通过第一~第四接触洞与第一及第二主动层连接的第一及第二源极、第一及第二漏极。形成第二层间绝缘层。利用前述掩膜进行另一微影蚀刻工艺,以于第二层间绝缘层中形成第一~第三开口及接触洞,其中于法线方向上,第三开口与第一接触洞重叠,接触洞与第二接触洞重叠,第一开口与第三接触洞重叠,第二开口与第四接触洞重叠。

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