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涂层、具有该涂层的被覆件及该被覆件的制备方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201010257387.0
IPC分类号：C23C14/35;C23C14/08;B32B9/00;B32B3/30
申请日期：
2010-08-19
申请人：
鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	涂层、具有该涂层的被覆件及该被覆件的制备方法
申请号	CN201010257387.0	申请日期	2010-08-19
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2012-03-14	公开/公告号	CN102373428A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/35 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕 C23C14/35 利用磁场的，例如磁控溅射〔5〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;5;;;C;2;3;C;1;4;/;0;8;;;B;3;2;B;9;/;0;0;;;B;3;2;B;3;/;3;0查看分类表>
申请人	鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司	申请人地址	广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	鸿富锦精密工业（深圳）有限公司,鸿海精密工业股份有限公司	当前权利人	鸿富锦精密工业（深圳）有限公司,鸿海精密工业股份有限公司
发明人	张新倍;陈文荣;蒋焕梧;陈正士;张娟
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明提供一种涂层，该涂层包括一SnO2-Al2O3的抗指纹层。该抗指纹层的表面分布有若干纳米量级的乳突，使该涂层具有良好的抗指纹性。本发明还提供一种具有上述涂层的被覆件。该被覆件包括一基体及形成于该基体上的所述涂层。另外，本发明还提供了一种上述被覆件的制备方法。

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