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曝光装置、曝光方法及设备制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200680001363.0
  • IPC分类号:G03F7/20;H01L21/027
  • 申请日期:
    2006-06-30
  • 申请人:
    株式会社尼康
著录项信息
专利名称曝光装置、曝光方法及设备制造方法
申请号CN200680001363.0申请日期2006-06-30
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2007-11-28公开/公告号CN101080807
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人株式会社尼康申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社尼康当前权利人株式会社尼康
发明人新井诚义
代理机构上海专利商标事务所有限公司代理人左一平
摘要
曝光装置(10)包括:射出激光的激光装置(16);存储有第1信息的存储器(51),该第1信息表示形成在晶圆上的图案的线宽误差与从激光装置射出的激光的光谱特性之间的关系;以及主控制装置(50),根据第1信息及与所使用的掩膜相关的信息,通过激光控制装置(16e)来控制激光的光谱带宽。主控制装置(50)根据第1信息及与所使用的掩膜相关的信息来执行例如抑制线宽误差之类的激光的光谱带宽控制。

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