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一种基于面元散射的合成孔径声纳面目标快速仿真方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201010112242.1
  • IPC分类号:G01S7/52;G01S15/89
  • 申请日期:
    2010-02-08
  • 申请人:
    中国科学院声学研究所
著录项信息
专利名称一种基于面元散射的合成孔径声纳面目标快速仿真方法
申请号CN201010112242.1申请日期2010-02-08
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2010-06-30公开/公告号CN101762811A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01S7/52IPC分类号G;0;1;S;7;/;5;2;;;G;0;1;S;1;5;/;8;9查看分类表>
申请人中国科学院声学研究所申请人地址
北京市海淀区北四环西路21号中国科学院声学研究所 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院声学研究所当前权利人中国科学院声学研究所
发明人李保利;刘维;刘纪元;张春华
代理机构北京法思腾知识产权代理有限公司代理人杨小蓉;高宇
摘要
本发明提出一种基于面元散射的合成孔径声纳面目标快速仿真方法,所述的方法包含如下步骤:(1)设定合成孔径声纳系统的仿真参数,构造面目标场景模型;(2)依据声纳基阵在方位向上的时间顺序,确定基阵位置,确定表征面目标的三角面元被照射状态;(3)对所有完全被照射的三角面元,用化简得到的赫姆霍兹-基尔霍夫积分公式计算所有被照射三角面元的散射场的频域信号,再对得到的所有三角面元的散射场的频域信号进行叠加和逆傅里叶变换获得当前位置对应的面目标回波数据;(4)按照方位向的顺序重复步骤(2)~(4),从而获得当前基阵位置对应的回波信号的频域表示,再对频域信号进行逆傅里叶变换获得面目标对应的完整回波数据。

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