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一种屏蔽盖的制造方法和利用该方法制造的屏蔽盖

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200610117182.6
  • IPC分类号:H05K9/00;G12B17/02
  • 申请日期:
    2006-10-16
  • 申请人:
    英华达(上海)电子有限公司
著录项信息
专利名称一种屏蔽盖的制造方法和利用该方法制造的屏蔽盖
申请号CN200610117182.6申请日期2006-10-16
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2008-04-23公开/公告号CN101166412
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H05K9/00IPC分类号H;0;5;K;9;/;0;0;;;G;1;2;B;1;7;/;0;2查看分类表>
申请人英华达(上海)电子有限公司申请人地址
上海市漕河泾新兴技术开发区桂箐路7号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人英华达(上海)电子有限公司当前权利人英华达(上海)电子有限公司
发明人林世寅;马震宇
代理机构北京集佳知识产权代理有限公司代理人逯长明
摘要
本发明提供一种屏蔽盖的制造方法,该屏蔽盖固定在一电路板上,包括屏蔽框和屏蔽框盖,用一屏蔽隔离条分别与屏蔽框和屏蔽框盖固定,并在屏蔽隔离条上喷涂导电介质。本发明还提供一种采用上述方法制造的屏蔽盖。本发明提供的屏蔽隔离条,在能有效解决屏蔽盖内另有接地部分以隔离电子模块的问题的同时,还确保了屏蔽盖的屏蔽作用,并可方便电子工程师在电路板上布局。

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