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三维可编程存储器的制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201811117240.4
  • IPC分类号:H01L27/115
  • 申请日期:
    2018-09-25
  • 申请人:
    成都皮兆永存科技有限公司
著录项信息
专利名称三维可编程存储器的制备方法
申请号CN201811117240.4申请日期2018-09-25
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2019-03-29公开/公告号CN109545787A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/115
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IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;1;5查看分类表>
申请人成都皮兆永存科技有限公司申请人地址
四川省成都市高新区府城大道西段399号5栋1单元11层3号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人成都皮兆永存科技有限公司当前权利人成都皮兆永存科技有限公司
发明人彭泽忠
代理机构成都惠迪专利事务所(普通合伙)代理人刘勋
摘要
三维可编程存储器的制备方法,涉及存储器的制备技术。本发明包括下述步骤:1)形成基础结构体;2)对基层结构体开槽;3)在条形槽的内壁逐层设置预设的存储器结构所需的各存储介质层;4)在条形槽的空腔中填充核心介质,形成核心介质层;5)在条形槽的端部区域设置自顶层到底层贯穿的隔离槽,从形状上由隔离槽将各条形槽首尾连接为一条曲线,隔离槽侵入条形槽以使条形槽长边方向两侧的导电介质形成绝缘隔离;并在条形槽上开设自顶层到底层贯穿的切割槽孔,切割槽孔侵入其所在条形槽长边邻近的基础结构体,切割槽孔将条形槽分割为至少3个独立的存储体;6)在隔离槽和切割槽孔中填充绝缘介质。本发明得到的半导体存储器存储密度高。

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