加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

结晶性层叠结构体以及半导体装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510233704.8
  • IPC分类号:H01L29/24;H01L21/02;H01L29/872;H01L29/778;H01L29/78;H01L29/739;H01L33/02
  • 申请日期:
    2015-05-08
  • 申请人:
    FLOSFIA株式会社
著录项信息
专利名称结晶性层叠结构体以及半导体装置
申请号CN201510233704.8申请日期2015-05-08
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2015-11-25公开/公告号CN105097896A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/24
?
IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;2;4;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;;;H;0;1;L;2;9;/;8;7;2;;;H;0;1;L;2;9;/;7;7;8;;;H;0;1;L;2;9;/;7;8;;;H;0;1;L;2;9;/;7;3;9;;;H;0;1;L;3;3;/;0;2查看分类表>
申请人FLOSFIA株式会社申请人地址
日本京都府京都市西京区御陵大原1番29号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社FLOSFIA当前权利人株式会社FLOSFIA
发明人人罗俊实;织田真也;高塚章夫
代理机构深圳瑞天谨诚知识产权代理有限公司代理人温青玲
摘要
提供一种半导体特性好,特别地,导电性的易控制性好,能够在纵方向导通,具有良好的电学特性的结晶性层叠结构体。所述层叠结构体在所含主要成分为单轴取向的金属之金属层上,直接或介由其他层具备半导体层,并且所述半导体层所含主要成分为结晶性氧化物半导体,所述结晶性氧化物半导体是含有从镓、铟以及铝中选择的一种或两种以上的金属的氧化物半导体,并且是单轴取向的。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供