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一种掩膜板及其制作方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201710019557.3
IPC分类号：G03F1/32
申请日期：
2017-01-10
申请人：
京东方科技集团股份有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种掩膜板及其制作方法
申请号	CN201710019557.3	申请日期	2017-01-10
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2017-05-31	公开/公告号	CN106773523A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G03F1/32 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕 G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G） G03F1/16 （转入G03F 1/00-G03F 1/86） G03F1/26 相移掩膜〔PSM〕；PSM空白；其制备〔2012.01〕 G03F1/32 衰减 PSM〔att-PSM〕，例如半色调PSM或者有半透明相移部分的PSM；其制备〔2012.01〕	IPC分类号	G;0;3;F;1;/;3;2查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司
发明人	张小磊
代理机构	北京同达信恒知识产权代理有限公司	代理人	黄志华

摘要

本申请实施例提供一种掩膜板及其制作方法，以简化掩模板的制作工艺，降低掩模板的制作成本。该掩模板的制作方法，包括：提供一透明衬底基板；在所述透明衬底基板上形成具有设定图案的遮光层，其中，具有设定图案的所述遮光层用于对光进行部分遮挡。

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