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一种高纯度纳米金刚石抛光液及其制备方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710051871.6
  • IPC分类号:C09G1/02
  • 申请日期:
    2007-04-13
  • 申请人:
    中国地质大学(武汉)
著录项信息
专利名称一种高纯度纳米金刚石抛光液及其制备方法
申请号CN200710051871.6申请日期2007-04-13
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2007-09-12公开/公告号CN101033374
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C09G1/02IPC分类号C;0;9;G;1;/;0;2查看分类表>
申请人中国地质大学(武汉)申请人地址
湖北省武汉市洪山区鲁磨路388号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国地质大学(武汉)当前权利人中国地质大学(武汉)
发明人侯书恩;靳洪允;潘勇;杨晓光;赵新颖
代理机构湖北武汉永嘉专利代理有限公司代理人唐万荣
摘要
本发明涉及超精密加工用高纯度纳米金刚石抛光液以及该金刚石抛光液的制备方法。一种高纯度纳米金刚石抛光液,其特征在于它主要由纳米金刚石、润湿剂、表面改性剂、分散剂、化学添加剂和水原料制备而成,各原料所占重量百分比为:纳米金刚石:0.05~10%;润湿剂:0.01~2%;表面改性剂:1~5%;分散剂:0.1~10%;化学添加剂:0.2~1%;水:88.69~98.64%;各原料重量百分比之和为100%;所述的润湿剂、表面改性剂、分散剂、化学添加剂分别指固含量;所述的纳米金刚石的纯度为99.9%以上;粒度分布为10~200nm。本发明所制备的高纯度纳米金刚石抛光液具有稳定性良好、抛光效率高、抛光效果好的特点。

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