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一种改善物理刻蚀崩边的掩膜板

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN202020256980.2
  • IPC分类号:B41J2/16;B24C1/04;B24C9/00;G03F1/00
  • 申请日期:
    2020-03-05
  • 申请人:
    宁波得力微机电芯片技术有限公司
著录项信息
专利名称一种改善物理刻蚀崩边的掩膜板
申请号CN202020256980.2申请日期2020-03-05
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B41J2/16IPC分类号B;4;1;J;2;/;1;6;;;B;2;4;C;1;/;0;4;;;B;2;4;C;9;/;0;0;;;G;0;3;F;1;/;0;0查看分类表>
申请人宁波得力微机电芯片技术有限公司申请人地址
浙江省宁海县得力辛玲工业园二期F栋 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人宁波得力微机电芯片技术有限公司当前权利人宁波得力微机电芯片技术有限公司
发明人庄军港;陈学诣
代理机构宁波诚源专利事务所有限公司代理人胡志萍;王莹
摘要
本实用新型涉及一种改善物理刻蚀崩边的掩膜板,包括具有镂空区域的基板,基板上沿镂空区域边缘的一周均匀地向镂空区域内凸设有多个突出部。本实用新型中的改善物理刻蚀崩边的掩膜板,沿镂空区域边缘的一周均匀地向镂空区域内凸设有多个突出部,如此在进行墨道喷砂作业时,喷砂轰击到非掩膜区,因为掩膜区和非掩膜区因为突出部形成了缓冲区。在喷砂轰击过程中,反射回溅射的砂粒优先触碰到边缘伸出的锯齿凸点上,使其成受力点,进而坍塌崩裂,喷砂在缓冲区中通过掩膜板的数量会减少,缓冲区收到的冲击量会减少,减少出现崩边的情况。在喷砂完成之后,使得加工出的墨道边缘接近直线,提高了喷墨头芯片的外观和良率。

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