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真空设备的基座定位支撑装置

发明专利有效专利

申请号：
CN200810109809.2
IPC分类号：C23C14/50;C23C16/44
申请日期：
2008-05-30
申请人：
财团法人工业技术研究院

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	真空设备的基座定位支撑装置
申请号	CN200810109809.2	申请日期	2008-05-30
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2009-12-02	公开/公告号	CN101591771
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/50 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/50 基座〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;5;0;;;C;2;3;C;1;6;/;4;4查看分类表>
申请人	财团法人工业技术研究院	申请人地址	中国台湾新竹县变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	财团法人工业技术研究院	当前权利人	财团法人工业技术研究院
发明人	杜陈忠;梁沐旺;吴庆辉;江铭通
代理机构	北京戈程知识产权代理有限公司	代理人	程伟;张硕

摘要

一种应用于真空设备腔体内升降承载基板的基座定位支撑装置，利用一侧向定位支撑机构自基座侧面进行夹持定位，可以避免基座在真空设备腔体内的位置偏斜情形，该侧向定位支撑机构并与基座形成简支梁支撑结构，以改善大面积基座边缘的荷重悬垂变形，使大面积基板置于基座上得以进行维持平坦性与或调整水平性的效益，于大面积基板镀膜应用时，可以显著提升大面积基板薄膜沉积厚度的均匀性。

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