搬送系统、曝光装置、搬送方法、曝光方法及器件制造方法、以及吸引装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201380071862.7
IPC分类号：H01L21/027;G03F7/20;H01L21/677
申请日期：
2013-11-27
申请人：
株式会社尼康

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	搬送系统、曝光装置、搬送方法、曝光方法及器件制造方法、以及吸引装置
申请号	CN201380071862.7	申请日期	2013-11-27
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2015-09-30	公开/公告号	CN104956465A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/027 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕 H01L21/02 半导体器件或其部件的制造或处理〔2，8〕 H01L21/027 未在H01L 21/18或H01L 21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜〔5〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;0;2;7;;;G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;6;7;7查看分类表>
申请人	株式会社尼康	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社尼康	当前权利人	株式会社尼康
发明人	原英明
代理机构	北京市金杜律师事务所	代理人	陈伟

摘要

搬送系统具有：晶片载台(WST)，其保持所载置的晶片(W)，并且能够沿着XY平面移动；吸盘单元(153)，其在规定位置的上方，从上方以非接触的方式保持晶片，且能够上下移动；和多个上下移动销(140)，其在晶片载台(WST)位于上述规定位置时，在晶片载台(WST)上能够从下方支承由吸盘单元(153)保持的晶片，且能够上下移动。并且，通过Z位置检测系统(146)来测定晶片(W)的平坦度，并基于该测定结果来独立地驱动将晶片(W)保持(支承)的吸盘单元(153)和上下移动销(140)。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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