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自蔓延高温还原合成法制备高纯二硼化钛陶瓷微粉

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN01128497.8
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2001-09-27
  • 申请人:
    武汉理工大学
著录项信息
专利名称自蔓延高温还原合成法制备高纯二硼化钛陶瓷微粉
申请号CN01128497.8申请日期2001-09-27
法律状态撤回申报国家中国
公开/公告日2002-03-27公开/公告号CN1341576
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人武汉理工大学申请人地址
湖北省武汉市洪山区珞狮路122号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人武汉理工大学当前权利人武汉理工大学
发明人傅正义;王为民;王皓
代理机构湖北武汉永嘉专利代理有限公司代理人李延瑾
摘要
自蔓延高温还原合成法制备高纯二硼化钛陶瓷微粉的方法,是采用活泼金属还原剂和廉价的氧化物原料,通过强烈的放热化学反应自发地合成高纯TiB2陶瓷微粉。本发明是将TiO2、B2O3和金属Mg粉末均匀混合并模压成型,然后在常温常压下置于氩气保护的自蔓延高温合成装置中,点火燃烧,燃烧产物经破碎、酸洗后得到高纯TiB2陶瓷微粉。本发明的优点在于比传统碳热还原TiB2陶瓷粉末的纯度高、晶粒细小、工艺简单、能耗和时耗小。与SHS单质合成TiB2陶瓷粉末相比,制造成本低。

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