加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

涂敷光刻胶的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN86103644
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    1986-06-11
  • 申请人:
    株式会社日立制作所
著录项信息
专利名称涂敷光刻胶的方法
申请号CN86103644申请日期1986-06-11
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日1987-04-29公开/公告号CN86103644
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人株式会社日立制作所申请人地址
日本东京 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社日立制作所当前权利人株式会社日立制作所
发明人伊藤铁男;田沼正之;込义之;门田和也;小林一成
代理机构中国国际贸易促进委员会专利代理部代理人李勇
摘要
光刻工艺,包括在衬底上旋涂光刻胶并将掩膜图形转移到光刻胶上而后进行曝光,及在图形被曝光后在衬底上形成该图形。当光刻胶显影图形因涂敷光刻胶工艺中的参数的增加或减少而脉动变化时,将参数的值设置到与脉动的极值相符。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供