一种高硬度、高弹性模量TiSiN保护涂层的制备方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201310476304.0
IPC分类号：C23C14/35;C23C14/06
申请日期：
2013-10-12
申请人：
萨姆森涂层纳米科技（上海）有限公司

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著录项信息

专利名称	一种高硬度、高弹性模量TiSiN保护涂层的制备方法
申请号	CN201310476304.0	申请日期	2013-10-12
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2014-01-15	公开/公告号	CN103510061A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/35 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/34 溅射〔4〕 C23C14/35 利用磁场的，例如磁控溅射〔5〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;3;5;;;C;2;3;C;1;4;/;0;6查看分类表>
申请人	萨姆森涂层纳米科技（上海）有限公司	申请人地址	上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路887弄84号205室变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	萨姆森涂层纳米科技（上海）有限公司	当前权利人	萨姆森涂层纳米科技（上海）有限公司
发明人	吴舢红;李伟;薛增辉
代理机构	上海硕力知识产权代理事务所	代理人	王建国

摘要

本发明公开了一种高硬度、高弹性模量TiSiN保护涂层的制备方法，包括如下制备步骤：（1）基体清洗，然后进行离子清洗；（2）TiSiN层制备：将步骤（1）处理后的基体送到溅射室进行沉积，Ti-Si复合靶材由射频阴极控制，沉积1-2μm的TiSiN涂层。本发明所得TiSiN涂层不但具有高硬度34.4GPa，而且具有优良的抗高温氧化性和耐腐蚀能力，工艺简单、沉积速度快、成本低、结合强度高等特点，并且具有生产效率高、能耗低，对设备要求较低等优点，可作为高速、干式切削的刀具涂层和其他领域的保护涂层。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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