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一种易清洁型合成热室

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN202121255777.4
  • IPC分类号:B08B9/093;F26B21/00;G21F7/00
  • 申请日期:
    2021-06-04
  • 申请人:
    上海安迪科正电子技术有限公司
著录项信息
专利名称一种易清洁型合成热室
申请号CN202121255777.4申请日期2021-06-04
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B08B9/093IPC分类号B;0;8;B;9;/;0;9;3;;;F;2;6;B;2;1;/;0;0;;;G;2;1;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人上海安迪科正电子技术有限公司申请人地址
上海市松江区石湖荡镇长塔路465号23幢 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海安迪科正电子技术有限公司当前权利人上海安迪科正电子技术有限公司
发明人罗昌烜
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本申请涉及放射性药物合成的领域,尤其是涉及一种易清洁型合成热室,其包括箱体,箱体内设有热室,箱体上设有屏蔽门,所述热室内设有清洗机构,所述清洗机构包括清洗组件和排水组件,所述清洗组件包括清洗管和喷头,所述喷头与清洗管连通,所述喷头位于热室内,所述清洗管上设置有喷水阀,所述排水组件用于将喷头中喷出的水排出热室。本申请具有便于热室清洗的效果。

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