用于磁记录介质的衬底及其制造方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200510051808.3
IPC分类号：G11B5/66;G11B5/84
申请日期：
2005-03-03
申请人：
信越化学工业株式会社

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法律信息

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著录项信息

专利名称	用于磁记录介质的衬底及其制造方法
申请号	CN200510051808.3	申请日期	2005-03-03
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2005-09-07	公开/公告号	CN1664933
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G11B5/66 ? IPC结构图谱： G 物理 G9 G部其他 G11 信息存储 G11B 基于记录载体和换能器之间的相对运动而实现的信息存储（以不需要通过换能器重现记录值的方式记录测量值的入G01D 9/00；利用有机械标记的带子，例如，穿孔纸带或利用单元记录卡，如穿孔卡片或具有磁性标记的卡片的记录或重现设备入G06K；将数据从记录载体的一种类型转移到另一种类型上的入G06K 1/18；将重放装置的输出耦合到无线电接收机上去的电路入H04B 1/20；唱机拾音器之类的声音机电传感器或为此所用的电路入H04R） G11B5/00 借助于记录载体的激磁或退磁进行记录的；用磁性方法进行重现的；为此所用的记录载体（G11B 11/00优先）〔4〕 G11B5/62 按所用材料选择区分的记录载体 G11B5/64 仅由无须黏结剂的磁性材料构成的 G11B5/66 由多层材料组成的记录载体	IPC分类号	G;1;1;B;5;/;6;6;;;G;1;1;B;5;/;8;4查看分类表>
申请人	信越化学工业株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	信越化学工业株式会社	当前权利人	信越化学工业株式会社
发明人	新谷尚史;山形则男
代理机构	中原信达知识产权代理有限责任公司	代理人	钟强;樊卫民

摘要

本发明提供的是表面经过处理的衬底，其中，衬底的表面的粗糙度可以被控制。这种表面经过处理的衬底能够形成磁记录介质，其中，记录头浮动稳定性得到了保证，而且其具有能够实现高记录密度的磁膜。还提供了一种粗化衬底的表面的方法。更具体的说，提供了用于磁记录介质的表面磁膜处理的衬底，其中，用来形成记录层的表面每μm2含有40到1000个凸起，最大高度是10nm或是更小和平均粗糙度是0.3到2.0nm，而且在表面上没有任何缺陷或斑点。此外，还提供了制造用于磁记录介质的表面经过处理的硅衬底的方法，包括蚀刻硅衬底的表面的步骤，其中超声波被施加于硅衬底的表面而且衬底被摇动或旋转。还提供了包括一种所述硅衬底的磁记录介质。

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