散射X线除去用滤波栅的制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201510122594.8
IPC分类号：G21K3/00
申请日期：
2015-03-19
申请人：
株式会社富士金

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著录项信息

专利名称	散射X线除去用滤波栅的制造方法
申请号	CN201510122594.8	申请日期	2015-03-19
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2015-06-17	公开/公告号	CN104715802A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G21K3/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G21 核物理；核工程 G21K 未列入其他类目的粒子或电离辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜〔2〕 G21K3/00 电离辐射滤波器，如X射线滤波器〔2〕	IPC分类号	G;2;1;K;3;/;0;0查看分类表>
申请人	株式会社富士金	申请人地址	日本大阪府大阪市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	株式会社富士金	当前权利人	株式会社富士金
发明人	胜见雪人;町井芳文;长谷川惠一;长谷川博恒;吉原丰;吉田政人;佐藤秀信
代理机构	北京权泰知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	任永利

摘要

本发明的课题之一在于提供：能够简易且廉价地制造1次X线的透射特性优异的散射X线除去用滤波栅的制造方法。解决手段之一是，在贯通图案成形工序中，通过对树脂基板GS照射同步加速光束，成形形成了以规定间隔配置有多个6角形状单位贯通部H的贯通图案的一次加工基板。接着，在无电解镀敷处理工序中，通过在含有具备X线吸收性的金属(Au)的无电解镀敷溶液中浸渍该一次加工基板，在单位贯通部H之间的连结部分B的表背面及单位贯通部H的内面形成无电解金镀敷层。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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