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对含有痕量银离子的溶液进行处理的方法及所用的固相萃取吸附剂

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201110135360.9
  • IPC分类号:B01D15/10;B01D15/42;B01J20/22;B01J20/30
  • 申请日期:
    2011-05-24
  • 申请人:
    江苏技术师范学院
著录项信息
专利名称对含有痕量银离子的溶液进行处理的方法及所用的固相萃取吸附剂
申请号CN201110135360.9申请日期2011-05-24
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2011-10-26公开/公告号CN102225247A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B01D15/10IPC分类号B;0;1;D;1;5;/;1;0;;;B;0;1;D;1;5;/;4;2;;;B;0;1;J;2;0;/;2;2;;;B;0;1;J;2;0;/;3;0查看分类表>
申请人江苏技术师范学院申请人地址
江苏省南通市海安开发区康华路59号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人南通金威复合材料有限公司当前权利人南通金威复合材料有限公司
发明人连宁;唐江宏;贺香红;刘玉海;尚通明
代理机构常州市江海阳光知识产权代理有限公司代理人翁坚刚
摘要
本发明公开了一种对含有痕量银离子的溶液进行处理的方法及所用的固相萃取吸附剂。该方法包括:①制备固相萃取吸附剂;②用固相萃取吸附剂吸附含有痕量银离子的溶液中的银离子;③用硝酸溶液洗脱吸附在固相萃取吸附剂上的银离子,而使得该硝酸溶液成为含有银离子的洗脱液。该固相萃取吸附剂是用浓盐酸对纳米二氧化硅进行活化,然后用硅烷偶联剂对活化后的纳米二氧化硅进行硅烷化,再用吡咯烷二硫代氨基甲酸铵对硅烷化后的纳米二氧化硅进行修饰而得到。本发明的方法操作方便、富集银离子效果较好。该固相萃取吸附剂对二价银离子的吸附选择性好,吸附容量大。

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