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一种势垒层组分渐变的InAlN/GaNHEMT器件

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201610348582.1
  • IPC分类号:H01L29/06;H01L29/20
  • 申请日期:
    2016-05-24
  • 申请人:
    江南大学
著录项信息
专利名称一种势垒层组分渐变的InAlN/GaNHEMT器件
申请号CN201610348582.1申请日期2016-05-24
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2016-08-17公开/公告号CN105870165A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/06IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;0;6;;;H;0;1;L;2;9;/;2;0查看分类表>
申请人江南大学申请人地址
江苏省无锡市滨湖区蠡湖大道1800号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人江南大学当前权利人江南大学
发明人任舰;顾晓峰;闫大为
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明公开了一种势垒层组分渐变的InAlN/GaNHEMT器件。该器件包括衬底材料上依次形成的GaN成核层,GaN缓冲层,AlN插入层,In组分渐变InAlN势垒层,GaN帽层,SiN钝化层以及其上形成的栅极、源极和漏极,其特征是底层In0.17Al0.83N势垒与GaN材料形成晶格匹配,通过逐层增加In组分,增加极化效应产生的二维电子气浓度,提高器件的饱和电流和输出功率。本发明在减少异质界面形成线性位错和抑制逆压电效应的同时,有效提高了InAlN/GaNHEMT器件的电学性能。

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