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一种用于二氧化硅颗粒沉积的中央供料装置及方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201610850541.2
  • IPC分类号:G05B19/05;G01D21/02
  • 申请日期:
    2016-09-26
  • 申请人:
    长飞光纤光缆股份有限公司
著录项信息
专利名称一种用于二氧化硅颗粒沉积的中央供料装置及方法
申请号CN201610850541.2申请日期2016-09-26
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2017-02-15公开/公告号CN106406214A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G05B19/05IPC分类号G;0;5;B;1;9;/;0;5;;;G;0;1;D;2;1;/;0;2查看分类表>
申请人长飞光纤光缆股份有限公司申请人地址
湖北省武汉市东湖新技术开发区光谷大道9号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人长飞光纤光缆股份有限公司当前权利人长飞光纤光缆股份有限公司
发明人王志勇;张华明;王瑞春;顾立新;刘善沛;罗军;高则尚;朱方龙;杨轶
代理机构湖北武汉永嘉专利代理有限公司代理人胡建平
摘要
本发明提出一种用于二氧化硅颗粒沉积的中央供料装置及方法,该装置包括数个原料罐、数个缓冲罐、稳压气罐和压料气罐,数个原料罐上设有补气口和灌料口,补气口通过补气分管与补气主管的一端相连,稳压气罐与补气主管的另一端相连,灌料口通过灌料分管与灌料主管相连,数个缓冲罐上设有进料口、供料口、进气口和排气口,进料口通过进料分管与灌料主管相连,供料口通过供料分管与供料主管的一端相连,另一端与沉积生产线相连,进气口通过进气分管与进气主管的一端相连,另一端与压料气罐相连,排气口通过排气分管与排气主管的一端相连,另一端与主排气口相连。本发明自动化程度高,实现连续作业,效率高。

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