流体测定装置、流体测定方法以及程序

发明专利有效专利

申请号：
CN201980007436.4
IPC分类号：G01F1/66;A61B5/026;A61B5/0285;G01F1/00
申请日期：
2019-01-23
申请人：
京瓷株式会社

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法律信息

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著录项信息

专利名称	流体测定装置、流体测定方法以及程序
申请号	CN201980007436.4	申请日期	2019-01-23
法律状态	实质审查	申报国家	中国
公开/公告日	2020-08-21	公开/公告号	CN111566456A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01F1/66 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01F 容积、流量、质量流量或液位的测量；按容积进行测量〔2，5〕 G01F1/00 测量连续通过仪表的流体或流动固体材料的流量或质量流量（测量流量比例入G01F 5/00）〔2〕 G01F1/66 通过测量电磁波或其他波的频率、相位移或传播时间，例如，超声波流量计〔2〕	IPC分类号	G;0;1;F;1;/;6;6;;;A;6;1;B;5;/;0;2;6;;;A;6;1;B;5;/;0;2;8;5;;;G;0;1;F;1;/;0;0查看分类表>
申请人	京瓷株式会社	申请人地址	日本京都府变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京瓷株式会社	当前权利人	京瓷株式会社
发明人	长坂优志
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	王晖

摘要

一实施方式所涉及的流体测定装置具备：发光部，能够向包含流体的被照射物照射光；光接收部，能够对由流体散射的散射光进行接收；以及控制部，具有基于散射光来生成频谱的生成部、以及基于频谱的特征分量来推定流体的流动状态的推定部。并且，控制部在由生成部生成基于测定对象的流体的第1频谱、以及基于已知的流动状态的流体的第2频谱之后，由推定部对比第1频谱的特征分量和第2频谱的特征分量，从而能够推定测定对象的流体的流动状态。

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