高精度稀土抛光粉及其制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200810043912.1
IPC分类号：C09G1/02;C09K3/14
申请日期：
2008-11-07
申请人：
上海华明高纳稀土新材料有限公司

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著录项信息

专利名称	高精度稀土抛光粉及其制备方法
申请号	CN200810043912.1	申请日期	2008-11-07
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2009-07-08	公开/公告号	CN101475777
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C09G1/02 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C09 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 C09G 虫胶清漆除外的抛光组合物；滑雪屐蜡 C09G1/00 抛光组合物（虫胶清漆入C09F 11/00；洗涤剂入C11D） C09G1/02 含有磨料或研磨剂	IPC分类号	C;0;9;G;1;/;0;2;;;C;0;9;K;3;/;1;4查看分类表>
申请人	上海华明高纳稀土新材料有限公司	申请人地址	上海市松江区繁华路81号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	上海华明高纳稀土新材料有限公司	当前权利人	上海华明高纳稀土新材料有限公司
发明人	高玮;陈曦;赵月昌;吴秋芳;杨筱琼
代理机构	上海金盛协力知识产权代理有限公司	代理人	罗大忱

摘要

本发明公开了一种高精度稀土抛光粉及其制备方法，其特征在于：D50粒径为0.50～1.80μm；且满足：D10≥0.5D50，D90≤2D50，D100≤3D50；本发明将硝酸镧铈或氯化镧铈镨溶液加入pH为4.5～5.5的草酸氨溶液，生成单分散的草酸镧铈或草酸镧铈镨沉淀，然后以将其作为晶种，制备所述高精度稀土抛光粉。采用本发明的方法获得的高精度稀土抛光粉，无需进行气流粉碎和精密分级，具有中位径粒小，粒度分布范围窄的特点，抛光粉的耐磨性和抛光精度稳定性容易控制，产品质量波动小。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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