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晶圆端面采样方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201110133148.9
IPC分类号：H01L21/66;H01L21/00
申请日期：
2011-05-23
申请人：
叶伟清

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	晶圆端面采样方法
申请号	CN201110133148.9	申请日期	2011-05-23
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2011-10-12	公开/公告号	CN102214591A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/66 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕 H01L21/66 在制造或处理过程中的测试或测量〔2〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;6;6;;;H;0;1;L;2;1;/;0;0查看分类表>
申请人	叶伟清	申请人地址	上海市松江区邱家湾31弄3号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	叶伟清	当前权利人	叶伟清
发明人	叶伟清
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明公开了一种半导体晶圆的端面采样方法。相对浸泡采样方法，本发明不需要使用大量纯水或化学药剂将晶圆整体浸入采样，而是以采样夹具狭缝中依靠表面张力附着的采样药剂液滴对晶圆端面进行采样，大大地提高了采样精度和效率。每次采样过程仅仅需要微升级的采样液，减少了采样液用量并且减低了采样成本，同时也减少了采样过程中废液的产生。

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