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一种超高压碳化硅晶闸管及其制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201810439343.6
  • IPC分类号:H01L29/74;H01L29/745
  • 申请日期:
    2018-05-09
  • 申请人:
    西安理工大学
著录项信息
专利名称一种超高压碳化硅晶闸管及其制备方法
申请号CN201810439343.6申请日期2018-05-09
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2018-10-09公开/公告号CN108630749A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/74
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;7;4;;;H;0;1;L;2;9;/;7;4;5查看分类表>
申请人西安理工大学申请人地址
陕西省西安市金花南路5号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人西安理工大学当前权利人西安理工大学
发明人蒲红斌;刘青;王曦;李佳琪;安丽琪
代理机构西安弘理专利事务所代理人谈耀文
摘要
本发明公开的一种超高压碳化硅晶闸管,包括位于同一平面内的碳化硅P+发射区和两个N型碳化硅衬底,碳化硅P+发射区位于两个N型碳化硅衬底之间,N型碳化硅衬底和碳化硅P+发射区上表面依次外延生长有碳化硅P发射区、碳化硅N+缓冲层、碳化硅N‑型长基区、碳化硅P‑短基区及碳化硅N+发射区,N型碳化硅衬底和碳化硅P+发射区背面覆盖有阳极欧姆电极;碳化硅N+发射区与碳化硅P‑短基区形成台阶,碳化硅N+发射区上覆盖有阴极欧姆电极;碳化硅P‑短基区两端上部镶嵌有两个碳化硅P+区,每个碳化硅P+区上覆盖有门极欧姆电极,碳化硅N+发射区和门极欧姆电极之间设置有门‑阴极隔离区。能进一步加快关断速度,减少关断损耗。

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