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一种在大型异形部件表面涂覆低应力非金属膜的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN95114023.X
IPC分类号：--
申请日期：
1995-12-26
申请人：
中国科学院金属研究所

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种在大型异形部件表面涂覆低应力非金属膜的方法
申请号	CN95114023.X	申请日期	1995-12-26
法律状态	撤回	申报国家	暂无
公开/公告日	1997-07-02	公开/公告号	CN1153226
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	中国科学院金属研究所	申请人地址	辽宁省沈阳市沈河区文化路*** 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院金属研究所	当前权利人	中国科学院金属研究所
发明人	邹健梧;周兴泰
代理机构	中国科学院沈阳专利事务所	代理人	张晨

摘要

一种在大型导电工件表面涂覆低应力非金属膜的方法，系采用直流等离子体增强CVD技术，其特征在于：将待涂覆的工件直接与以直流高压为主的电源阴极相接。本发明可在大尺寸异形工件表面同时均匀地涂覆内应力较低、膜厚均匀及与基材粘结较好的类金刚石碳膜，使其适应各种实际应用的需要。

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