利用四氯化硅低温水解沉淀生产二氧化硅的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201010164963.7
IPC分类号：C01B33/12;B09B3/00
申请日期：
2010-05-07
申请人：
李平

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著录项信息

专利名称	利用四氯化硅低温水解沉淀生产二氧化硅的方法
申请号	CN201010164963.7	申请日期	2010-05-07
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2010-09-08	公开/公告号	CN101823718A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C01B33/12 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C01 无机化学 C01B 非金属元素；其化合物（制备元素或二氧化碳以外无机化合物的发酵或用酶工艺入C12P 3/00；用电解法或电泳法生产非金属元素或无机化合物入C25B） C01B33/00 硅；其化合物（C01B 21/00，C01B 23/00优先；过硅酸盐入 C01B 15/14；碳化物入C01B32/956）〔1，3，2006.01〕 C01B33/113 氧化硅；其水合物〔3〕 C01B33/12 硅石；其水合物，如勒皮硅酸〔3〕	IPC分类号	C;0;1;B;3;3;/;1;2;;;B;0;9;B;3;/;0;0查看分类表>
申请人	李平	申请人地址	四川省绵阳市涪城区健安街宏杰花园B栋3-101号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	李平	当前权利人	李平
发明人	李平
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明公开了一种利用四氯化硅低温水解沉淀生产二氧化硅的方法，属硅的化合物技术领域。它是将配制成的钠盐溶液加入密闭反应釜中再加入四氯化硅，反应后调节pH值于8-9；将反应物进行固液分离，分离后的盐水浓缩干燥后，为氯化钠成品；固体二氧化硅经洗涤去除氯化钠残留；洗涤的水配制成盐水循环使用；洗涤后的二氧化硅经干燥为二氧化硅成品。本发明在密闭条件下进行，工艺简单、安全可靠、能耗低、处理量大、无污染、投资小。

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