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三维微结构及其形成方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200710093281.X
  • IPC分类号:H01P3/06
  • 申请日期:
    2007-12-28
  • 申请人:
    罗门哈斯电子材料有限公司
著录项信息
专利名称三维微结构及其形成方法
申请号CN200710093281.X申请日期2007-12-28
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日2008-10-01公开/公告号CN101274735
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01P3/06IPC分类号H;0;1;P;3;/;0;6查看分类表>
申请人罗门哈斯电子材料有限公司申请人地址
美国马萨诸塞州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人罗门哈斯电子材料有限公司当前权利人罗门哈斯电子材料有限公司
发明人C·A·尼克尔斯;S·周;W·D·霍克
代理机构上海专利商标事务所有限公司代理人沙永生
摘要
本发明提供了三维微结构及其形成方法。该微结构通过一顺序构造工艺形成并包括相互固定的微结构元件。例如,在用于电磁能的同轴传输线中该微结构获得了应用。

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