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半导体装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201710854658.2
  • IPC分类号:H01L29/423;H01L29/78
  • 申请日期:
    2017-09-20
  • 申请人:
著录项信息
专利名称半导体装置
申请号CN201710854658.2申请日期2017-09-20
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L29/423IPC分类号H;0;1;L;2;9;/;4;2;3;;;H;0;1;L;2;9;/;7;8查看分类表>
申请人暂无申请人地址
中国台湾新竹市 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人联华电子股份有限公司当前权利人联华电子股份有限公司
发明人何万迅;梅奎;邢溯
代理机构北京市柳沈律师事务所代理人陈小雯
摘要
本发明公开一种半导体装置,包括一基板、一主动层、一接触区以及一栅极结构。主动层配置于基板之上,且主动层具有一源极区及一漏极区。接触区配置于基板之上。栅极结构配置于主动层之上,其中栅极结构包括一中间部分及一侧边部分,侧边部分连接于中间部分,且侧边部分是蛇型。

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