对包含铜及钼的多层薄膜进行蚀刻的液体组合物及使用其的蚀刻方法及显示装置的制造方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201611175677.4
IPC分类号：C23F1/44
申请日期：
2016-12-19
申请人：
三菱瓦斯化学株式会社

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著录项信息

专利名称	对包含铜及钼的多层薄膜进行蚀刻的液体组合物及使用其的蚀刻方法及显示装置的制造方法
申请号	CN201611175677.4	申请日期	2016-12-19
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2017-08-29	公开/公告号	CN107099801A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23F1/44 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23F 非机械方法去除表面上的金属材料（电浸蚀法加工金属入B23H；火焰法清除表层金属材料入B23K 7/00；用激光束加工金属入B23K 26/00）；金属材料的缓蚀；一般防积垢（电解或电泳法处理金属表面或金属覆层入C25D，C25F）；至少一种在C23大类中所列的方法及至少一种在C21D、C22F小类或者C25大类中所列的方法之多步法金属材料表面处理〔4〕 C23F1/00 金属材料的化学法蚀刻〔2〕 C23F1/44 从一种不同成分的金属材料基体上蚀刻金属材料的组合物〔4〕	IPC分类号	C;2;3;F;1;/;4;4查看分类表>
申请人	三菱瓦斯化学株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	三菱瓦斯化学株式会社	当前权利人	三菱瓦斯化学株式会社
发明人	松原将英;夕部邦夫;茂田麻里;浅井智子;原田奈津美
代理机构	北京林达刘知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	刘新宇;李茂家

摘要

本发明提供对包含铜及钼的多层薄膜进行蚀刻的液体组合物及使用其的蚀刻方法及显示装置的制造方法。根据本发明，能够提供一种液体组合物，其是用于对包含由以铜为主成分的物质形成的铜层及由以钼为主成分的物质形成的钼层的多层薄膜进行蚀刻的液体组合物，所述液体组合物包含(A)过氧化氢3～9质量％、(B)酸6～20质量％、(C)碱化合物(其中，不包括咖啡因)1～10质量％、及(D)咖啡因0.1～4质量％，并且pH值为2.5～5.0。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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