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真空产生单元

发明专利无效专利

申请号：
CN200410097962.X
IPC分类号：--
申请日期：
2004-12-02
申请人：
SMC株式会社

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	真空产生单元
申请号	CN200410097962.X	申请日期	2004-12-02
法律状态	撤回	申报国家	暂无
公开/公告日	2005-06-08	公开/公告号	CN1624337
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	SMC株式会社	申请人地址	日本东京都变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	SMC株式会社	当前权利人	SMC株式会社
发明人	永井茂和;伊藤吉治;白井庸介
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	范莉

摘要

一种真空产生单元，其中，主体(20)包括由树脂材料构成的第一至第三块部件(12、14、16)。喷嘴孔(28)和扩散器孔(30)成一体形成于第三块部件(16)中。吸力通道(64)布置在喷嘴孔(28)和扩散器孔(30)之间。

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