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一种自动化的样本减薄方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201711093467.5
  • IPC分类号:G01N1/28
  • 申请日期:
    2017-11-08
  • 申请人:
    上海华力微电子有限公司
著录项信息
专利名称一种自动化的样本减薄方法
申请号CN201711093467.5申请日期2017-11-08
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2018-04-10公开/公告号CN107894357A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01N1/28IPC分类号G;0;1;N;1;/;2;8查看分类表>
申请人上海华力微电子有限公司申请人地址
上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海华力微电子有限公司当前权利人上海华力微电子有限公司
发明人周健刚;曹秋凤;龙吟;王恺;陈宏璘
代理机构上海申新律师事务所代理人暂无
摘要
本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种自动化的样本减薄方法;包括步骤S1,提供具有一缺陷的一初始样本;步骤S2,在初始样本避开缺陷的表面上,形成以缺陷的两侧边缘的两条平行的延长线为起始线,槽宽向两侧延伸的两个沟槽;步骤S3,在两个沟槽中填充与初始样本相异的金属;步骤S4,采用聚焦离子束工艺对填充金属后的样本的两侧进行减薄,并在减薄的过程中实时监测减薄过程中的返回的粒子成分;步骤S5,于监测到的粒子成分中相异的金属的成分的占比低于一预设值时,停止减薄操作;能够精确控制聚焦离子切割的位置,提高了切片精度,同时自动化程度高,效率较高,人工成本低,制样成功率高。

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