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半导体器件及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN200580052132.8
  • IPC分类号:H01L21/8246;H01L27/105
  • 申请日期:
    2005-11-25
  • 申请人:
    富士通株式会社
著录项信息
专利名称半导体器件及其制造方法
申请号CN200580052132.8申请日期2005-11-25
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2008-11-26公开/公告号CN101313401
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/8246
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;8;2;4;6;;;H;0;1;L;2;7;/;1;0;5查看分类表>
申请人富士通株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人富士通半导体股份有限公司,富士通微电子株式会社当前权利人富士通半导体股份有限公司,富士通微电子株式会社
发明人佐次田直也
代理机构隆天国际知识产权代理有限公司代理人张龙哺
摘要
一种半导体器件的制造方法,该半导体器件具有:形成有有源元件的半导体衬底,以覆盖上述有源元件的方式形成在上述半导体衬底上的防氧化膜,形成在上述防氧化膜上,并具有依次层叠下部电极、铁电膜以及上部电极的结构的铁电电容器,以覆盖上述铁电电容器的方式形成在上述防氧化膜上的层间绝缘膜;上述半导体器件的制造方法包括:在上述层间绝缘膜中,形成分别使上述上部电极以及下部电极露出的第一以及第二接触孔的工序;在上述层间绝缘膜中,形成使上述防氧化膜露出的开口部的工序;在上述层间绝缘膜中形成有上述第一以及第二接触孔和上述开口部的状态下,在氧化环境中对上述层间绝缘膜进行热处理的工序。

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