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光刻投影物镜波像差和成像最佳焦面的检测方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201410002627.0
  • IPC分类号:G03F7/20;G01M11/02
  • 申请日期:
    2014-01-03
  • 申请人:
    中国科学院上海光学精密机械研究所
著录项信息
专利名称光刻投影物镜波像差和成像最佳焦面的检测方法
申请号CN201410002627.0申请日期2014-01-03
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2014-04-23公开/公告号CN103744269A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;1;M;1;1;/;0;2查看分类表>
申请人中国科学院上海光学精密机械研究所申请人地址
上海市嘉定区800-211邮政信箱 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院上海光学精密机械研究所当前权利人中国科学院上海光学精密机械研究所
发明人李思坤;王向朝;杨济硕;李兆泽;闫观勇
代理机构上海新天专利代理有限公司代理人张泽纯
摘要
一种光刻投影物镜波像差和成像最佳焦面的检测方法,通过对特殊设计的二维检测标记在最佳焦面位置的仿真空间像进行主成分分析和多元线性回归,提取出包含像差影响的空间像的主成分和线性回归矩阵,利用主成分拟合实测空间像,以拟合残差的均方根最小为判断依据实现对光刻成像最佳焦面的快速、低成本检测,以回归矩阵拟合主成分系数,实现对波像差的快速、高精度原位检测。本发明仅需采集检测标记在不同焦深位置的空间像实现最佳焦面的检测,利用最佳焦面位置的空间像实现波像差高精度检测。

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