用于玻璃基板的静电吸引设备和吸引和释放玻璃基板的方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200680053935.X
IPC分类号：H01L21/683;H02N13/00;B65G49/06
申请日期：
2006-12-26
申请人：
三菱重工业株式会社

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著录项信息

专利名称	用于玻璃基板的静电吸引设备和吸引和释放玻璃基板的方法
申请号	CN200680053935.X	申请日期	2006-12-26
法律状态	授权	申报国家	暂无
公开/公告日	2009-04-01	公开/公告号	CN101401198
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/683 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕 H01L21/67 专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置〔8〕 H01L21/683 用于支承或夹紧的（用于定位、定向或对准的入H01L 21/68）〔8〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;6;8;3;;;H;0;2;N;1;3;/;0;0;;;B;6;5;G;4;9;/;0;6查看分类表>
申请人	三菱重工业株式会社	申请人地址	日本东京变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	三菱重工业株式会社	当前权利人	三菱重工业株式会社
发明人	加藤光雄，堀江茂齐，青井辰史，河野将树，津元良公，小笠原弘明，小林敏郎
代理机构	中科专利商标代理有限责任公司	代理人	王新华

摘要

本发明公开了一种静电吸引设备和一种能够可靠吸引和快速释放玻璃基板的吸引/释放方法。根据玻璃基板的物理性质获得用于吸引玻璃基板的吸引力。除了获得用于获得吸引力所要求的吸引电压(Vc(t))之外，也获得了用于保持吸引状态的保持电压(Vh(t))和用于释放玻璃基板的释放电压(Vr(t))(S1到S7)。吸引时间周期(tc)被实际测量，并且如果此测量的时间不同于预设吸引时间(t1)，根据实际测量的吸引时间周期(tc)重新计算保持电压(Vh(t))和释放电压(Vr(t))(S8到S11)。

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