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一种分析高数值孔径成像系统空间像的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201210148174.3
  • IPC分类号:G02B27/58
  • 申请日期:
    2012-05-11
  • 申请人:
    北京理工大学
著录项信息
专利名称一种分析高数值孔径成像系统空间像的方法
申请号CN201210148174.3申请日期2012-05-11
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2012-08-15公开/公告号CN102636882A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B27/58IPC分类号G;0;2;B;2;7;/;5;8查看分类表>
申请人北京理工大学申请人地址
北京市海淀区中关村南大街5号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北京理工大学当前权利人北京理工大学
发明人李艳秋;董立松;王婧敏
代理机构北京理工大学专利中心代理人李爱英;杨志兵
摘要
本发明提供一种分析高数值孔径成像系统空间像的方法,步骤为:将成像物图形初始化为的矩阵,其中矩阵的元素为成像物的透射率;对部分相干光源面进行栅格化,将每一栅格区域看作点光源,用每一区域中心点的光源的振幅和相位表示其所处栅格区域光源的振幅和相位;利用傅立叶光学理论计算成像系统入瞳上的衍射频谱在全局坐标系下的分布;获取成像系统;确定成像系统出瞳上的频谱在全局坐标系下的分布;进而确定像面上的光强分布;对所有的点光源对应的像面上的光强分布进行叠加,确定部分相干光源对应的像面上的光强分布。该方法弥补了结合二维偏振像差的成像模型在分析高NA成像系统轴外视场点空间像时的不足,适用于任意高NA成像系统。

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