加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

光刻设备与器件制造方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200710109896.7
  • IPC分类号:G03F7/20;H01L21/027
  • 申请日期:
    2007-06-05
  • 申请人:
    ASML荷兰有限公司
著录项信息
专利名称光刻设备与器件制造方法
申请号CN200710109896.7申请日期2007-06-05
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2007-12-12公开/公告号CN101086628
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;H;0;1;L;2;1;/;0;2;7查看分类表>
申请人ASML荷兰有限公司申请人地址
荷兰费尔德霍芬 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人ASML荷兰有限公司当前权利人ASML荷兰有限公司
发明人S·B·C·M·马滕斯;R·H·G·克拉默
代理机构中科专利商标代理有限责任公司代理人王波波
摘要
本发明涉及组装物体的方法,该方法包括如下步骤:提供具有第一表面的第一物体部分;提供具有第二表面的第二物体部分;定位第一物体部分和第二物体部分以使第一表面和第二表面彼此面对,并限定所述第一表面和所述第二表面之间的间隙;将粘接剂涂敷于间隙的至少一部分上;使第一物体部分和第二物体部分在一段时间内保持一定距离,通过毛细管作用和/或重力而使间隙基本被填满粘接剂;以及,使第一物体部分和第二物体部分彼此相对移动,以减小第一表面和第二表面之间的距离。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供