一种成像装置视场角测量系统

实用新型专利有效专利

申请号：
CN202120658111.7
IPC分类号：G01M11/02
申请日期：
2021-03-31
申请人：
天津科辉光仪测控技术有限公司

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著录项信息

专利名称	一种成像装置视场角测量系统
申请号	CN202120658111.7	申请日期	2021-03-31
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01M11/02 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01M 机器或结构部件的静或动平衡的测试；其他类目中不包括的结构部件或设备的测试 G01M11/00 光学设备的测试；其他类目未包括的用光学方法测试结构部件 G01M11/02 光学性质的测试	IPC分类号	G;0;1;M;1;1;/;0;2查看分类表>
申请人	天津科辉光仪测控技术有限公司	申请人地址	天津市东丽区华明街科创慧谷5号楼201G 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	天津科辉光仪测控技术有限公司	当前权利人	天津科辉光仪测控技术有限公司
发明人	刘畅
代理机构	天津垠坤知识产权代理有限公司	代理人	江洁

摘要

本申请涉及一种成像装置视场角测量系统，位机、双光楔支撑旋转机构以及依次设置的激光器、双光楔和待测成像装置；所述双光楔安装在所述双光楔支撑旋转机构上，所述待测成像装置和所述双光楔支撑旋转机构连接至所述上位机，所述上位机被配置为控制所述双光楔支撑旋转机构调整所述双光楔的角度，从而调整所述双光楔输出至所述待测成像装置的光线的角度。该系统结构简化、紧凑；测量范围大，仅需调节双光楔组件的旋转角度，即可实现测量范围的调节，无需调节测量系统和待测成像装置之间的距离。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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