一种基板支撑装置及蒸镀设备

发明专利无效专利

申请号：
CN201710752469.4
IPC分类号：C23C14/24;C23C14/56
申请日期：
2017-08-28
申请人：
京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司

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专利名称	一种基板支撑装置及蒸镀设备
申请号	CN201710752469.4	申请日期	2017-08-28
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2018-01-09	公开/公告号	CN107557734A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C23C14/24 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C2 冶金 C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕 C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆（挤压法制造包覆金属的产品入B21C23/22；通过将预先存在的薄层连接到制品上的方法用金属进行镀覆处理的见各有关位置，例如B21D39/00，B23K；玻璃的金属化入C03C；砂浆、混凝土、人造石、陶瓷或天然石的金属化入C04B41/00；金属的搪瓷或向金属上镀覆玻璃体层入c23D；用电解法或电泳法处理金属表面或镀覆金属入C25D；单晶膜生长入C30B；纺织品的金属化入D06M11/83；用局部金属化法装饰纺织品入D06Q1/04）〔4〕 C23C14/00 通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆〔4，2006.01〕 C23C14/22 以镀覆工艺为特征的〔4〕 C23C14/24 真空蒸发〔4〕	IPC分类号	C;2;3;C;1;4;/;2;4;;;C;2;3;C;1;4;/;5;6查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
发明人	许如意
代理机构	北京同达信恒知识产权代理有限公司	代理人	郭润湘

摘要

本发明涉及蒸镀技术领域，公开了一种基板支撑装置及蒸镀设备，该基板支撑装置中包括：载具，载具包括：架体，架体具有与待蒸镀基板的侧边一一对应的支撑体，每一个支撑体上设有多个第一支撑杆；至少一个支撑体中与机械手的非工作区域相对应的位置上设有至少一个第二支撑杆，当第二支撑杆处于第一工位时，第二支撑杆的自由端伸入到待蒸镀基板的蒸镀区域内，当第二支撑杆处于第二工位时，第二支撑杆移出待蒸镀基板的蒸镀区域。上述基板支撑装置的载具承载基板时，可以使基板保持平整状态，使基板与冷却板保持水平，在基板与冷却板贴合、分离过程中可以避免基板与冷却板之间产生摩擦，基板支撑更加稳固，有效降低基板掉落的风险。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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