一种单晶硅片的清洗方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200910099495.7
IPC分类号：B08B3/04B08B3/08
申请日期：
2009-06-10
申请人：
嘉兴五神光电材料有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种单晶硅片的清洗方法
申请号	CN200910099495.7	申请日期	2009-06-10
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2009-12-02	公开/公告号	CN101590476
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B08B3/04 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B0 分离；混合 B08 清洁 B08B 一般清洁；一般污垢的防除（刷子入A46；家庭或类似清洁装置入A47L；颗粒从液体或气体中分离入B01D；固体分离入B03，B07；一般对表面喷射或涂敷液体或其他流体材料入B05；用于输送机的清洗装置入B65G 45/10；对瓶子同时进行清洗、灌注和封装的入B67C 7/00；一般腐蚀或积垢的防止入C23；街道、永久性道路、海滨或陆地的清洗入E01H；专门用于游泳池或仿海滨浴场浅水池或池子的部件、零件或辅助设备清洁的入E04H 4/16；防止或清除静电荷入H05F） B08B3/00 使用液体或蒸气的清洁方法（B08B 9/00优先） B08B3/04 与液体接触的清洁	IPC分类号	B08B3/04;B08B3/08查看分类表>
申请人	嘉兴五神光电材料有限公司	申请人地址	浙江省嘉兴市嘉善县经济开发区松海路*** 变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	嘉兴五神光电材料有限公司	当前权利人	嘉兴五神光电材料有限公司
发明人	张春明;张建伟;王焕俊
代理机构	暂无	代理人	暂无

摘要

本发明公开了一种单晶硅片的清洗方法，旨在提供一种单晶硅片的清洗方法，把硅片表面的白斑、手指以及砂浆等残留物质去除干净，消除单晶硅片表面的手指印和白斑现象，使太阳能级单晶硅片的质量和转换效率得到进一步提升。它包括有以下步骤：砂浆预冲→脱胶→插片→清洗→甩干、检测。该方法通过砂浆预冲、脱胶、插片、清洗、甩干、检测，尤其采用氢氟酸溶液的浸泡和不同于常规的清洗方法以及工人在不同工序操作时，佩戴相应的手套，将硅片经过氢氟酸浸泡和清洗液等的清洗能有效地消除手指印和白斑现象。

喷附仪

实用新型

一种单晶硅片的清洗方法

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