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辐射屏蔽装置及放射治疗系统

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201621290357.9
  • IPC分类号:A61N5/10;G21F1/08;G21F3/00
  • 申请日期:
    2016-11-29
  • 申请人:
    上海联影医疗科技有限公司
著录项信息
专利名称辐射屏蔽装置及放射治疗系统
申请号CN201621290357.9申请日期2016-11-29
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号A61N5/10IPC分类号A;6;1;N;5;/;1;0;;;G;2;1;F;1;/;0;8;;;G;2;1;F;3;/;0;0查看分类表>
申请人上海联影医疗科技有限公司申请人地址
上海市嘉定区嘉定工业区城北路2258号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人上海联影医疗科技有限公司当前权利人上海联影医疗科技有限公司
发明人刘艳芳;韩卫
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本实用新型涉及放射治疗领域,提出一种辐射屏蔽装置及具有该辐射屏蔽装置的放射治疗系统,其中辐射屏蔽装置包括至少两个辐射屏蔽层:第一辐射屏蔽层为光子屏蔽层,用于对电子元件进行光子屏蔽,第二辐射屏蔽层为电子屏蔽层,用于对电子元件进行电子屏蔽,所述第一辐射屏蔽层设置在所述第二辐射屏蔽层远离所述电子元件的一侧。本实用新型的辐射屏蔽装置包括光子屏蔽层和电子屏蔽层,从而可以屏蔽大部分辐射,有效提高电子元件的使用寿命且提高放射治疗的安全性。

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